主營(yíng)產(chǎn)品：代理銷售：OTSUKA大塚電子、HORIBA堀場(chǎng)橢圓偏振光譜儀、HITACHI日立科學(xué)儀器光譜儀、MIKASA勻膠機(jī)、KOSAKA小坂臺(tái)階儀、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、yamada山田鹵素強(qiáng)光燈、DENSOKU電測(cè)、日本SSD防靜電、HITACHI日立金屬流量計(jì)、SIBATA柴田科學(xué)、大日本科研DNK、CEDAR思達(dá)扭力計(jì)、TORAY東麗氣體濃度計(jì)、KYOWA共和電業(yè)、TOKYOKEISO東京計(jì)裝流量計(jì)、AND愛安德、RYUKI東京流機(jī)流量計(jì)、IMV愛睦威地震儀、MITAKA三鷹光器、日本KURABO倉(cāng)紡濃度計(jì)、IWAKI易威奇、REVOX光箱、SAN-EITECH三英點(diǎn)膠機(jī)等

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日本MIKASA米卡薩株式會(huì)社：勻膠機(jī)，顯影、涂布機(jī)、旋涂機(jī)、光刻機(jī)

日本MIKASA米卡薩株式會(huì)社：勻膠機(jī)，顯影、涂布機(jī)、旋涂機(jī)、光刻機(jī)提供技術(shù)支持！
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晶園、洗滌**晶園表面的臟污及

各種金屬離子、成膜

在高溫?cái)U(kuò)散爐中，形成、表面氧化膜

電路圖案設(shè)計(jì)、運(yùn)用CAD制作布局、布線

設(shè)計(jì)圖。制作光掩膜

將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)

光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶

圓表面，形成厚度均一的薄膜。

旋轉(zhuǎn)涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合，復(fù)制電路

圖案。

光刻機(jī)(P13~P15)

可選組件

顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。

顯影裝置(P17. 18)、蝕刻

通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。

蝕刻裝置(P19)

離子注入/濺射

向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件吸盤

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密閉型)

●MS-B300 (密閉型)

日本MIKASA光刻機(jī)
MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復(fù)制電路圖案。
日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉(zhuǎn)涂膜儀

去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置

●ED-1200

●ED-3000

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對(duì)，且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對(duì)研究過程中所發(fā)生的一系列問題，也可在現(xiàn)場(chǎng)提出解決建議。與客戶共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問題、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設(shè)備，而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程。將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務(wù)。

日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備旋涂機(jī)

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

密閉型MS-B300

密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

AD-1200

AD-3000

ED-1200

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日本MIKASA米卡薩株式會(huì)社：勻膠機(jī)，顯影、涂布機(jī)、旋涂機(jī)、光刻機(jī)